Schottky-Effekt
Der Schottky-Effekt bewirkt die Verringerung der Austrittsarbeit für Elektronen an einer Metalloberfläche durch eine hohe elektrische Feldstärke im Außenraum. Dieser Effekt tritt bei Glühkathoden (Metall-Vakuum Grenzfläche) und auch Schottky-Kontakten (Metall-Halbleiter-Kontakten) wie den Schottky-Dioden auf. Der Effekt wurde nach dem deutschen Physiker Walter Schottky benannt.
Erklärung
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Der Einfachheit halber wird zuerst eine Metalloberfläche im Vakuum
betrachtet. Ein Elektron
in Entfernung
induziert
eine positive Ladung an der Metalloberfläche. Die anziehende Kraft zwischen der
induzierten Ladung und dem Elektron entspricht genau der Kraft zwischen dem
Elektron und einer gleich großen positiven Spiegelladung
bei
und wird Spiegel- oder Bildkraft genannt.
Mit
der Dielektrizitätskonstanten.
Die Potenzielle
Energie des Elektrons ergibt sich aus der Arbeit
die verrichtet werden muss, um das Elektron von
bis nach
zu bringen:
(Die Arbeit ist negativ, denn die anziehende Kraft zwischen Elektron und Spiegelladung wirkt in Richtung der Integration.)
Ein linearer Potentialverlauf aus einem homogenen Feld
im Außenraum überlagert sich dem Bildkraftpotential zu
.
Falls das externe Feld sehr stark ist, führt es schon innerhalb der kurzen Reichweite der Spiegelkraft zu einer Absenkung des Potentials. Mit steigender Feldstärke rückt das Maximum des Potentialverlaufs dichter an die Oberfläche heran,
und sinkt dabei ab um
Für ein elektrisches Feld der Stärke
ergibt das
und
,
was die Stromstärke der Schottky-Emission (siehe Edison-Richardson-Effekt)
bei 1000 Kelvin etwa vervierfachen würde. Allgemein erhöht der Schottky-Effekt
die Stromstärke der Glühemission um den Faktor
.
Für höhere Feldstärken als
muss der Tunneleffekt
berücksichtigt werden, denn die Breite der Barriere ist dann nicht mehr groß
gegen die Wellenlänge der Elektronen. Bei
ist der Tunnelstrom selbst bei kalter Elektrode beträchtlich, siehe Feldemission.
Das obige Prinzip gilt auch an Metall-Halbleiter-Grenzschichten. Das „äußere“ Feld existiert in diesem Fall selbst mit kurzgeschlossenen Anschlüssen, nämlich durch die Raumladungszone im Halbleitermaterial (dessen Dielektrizitätskonstante in den Formeln zu berücksichtigen ist).
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Datum der letzten Änderung: Jena, den: 13.01. 2022